IT之家 4 月 30 日消息，根据韩媒 TheElec 报道，三星正在考虑在其下一代 DRAM 极紫外（EUV）光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂（MOR）。

IT之家注：MOR 被业内认为是下一代光刻胶（PR），会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶（CAR）。CAR 在 PR 分辨率、抗蚀刻性和线边缘粗糙度方面已经无法完全满足未来光刻的需求。

三星正考虑在第 6 代 10 纳米 DRAM（1c DRAM）中使用 MOR，主要在六层或七层上使用 EUV PR，相关产品将于今年下半年投入生产。

消息称三星正计划向多家供应商采购 EUV MOR 光刻胶材料，除了 Inpria 之外杜邦、东进半导体、三星 SDI 等都在测试开发。

广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。