我想写个大家都没关注的点：除了曝光本身的精度外，光刻机的对准精度也极为关键。

因为先进节点的光刻有大约100道，每一道都要和之前的layer对齐才行。

对不齐的话是要rework的，不然做出来就是报废。

而对准精度的提高也非常复杂，每提升0.5nm都很难，对准精度从4nm到2.5nm, 也是质变。