36氪 - 快讯 ( ) • 2024-06-18 14:38
日本三井化学日前宣布,将开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品(保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品),计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,计划年产能力为5000张,生产线预计于2025年12月完工。可支持荷兰阿斯麦(ASML)将推出的下一代光刻机。(财联社)