高科技行业门户 ( ) • 2021-10-26 14:21
面对如此严峻的问题,日本存储大厂铠侠(Kioxia)联合半导体设备厂佳能、光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)共同开发了一种新的NIL制程技术,可以在不适用EUV光刻机的情况下就能够使半导体制程技术进到5nm。
而铠侠也表示,目前已成功解决NIL的基本技术问题,正在进行量产技术的推进工作,希望能较其他竞争对手率先引入到NAND生产当中。
另一个合作伙伴佳能,也致力于将NIL量产技术广泛的应用于制作DRAM及PC用的CPU等逻辑芯片的设备上,以在未来供应更多的半导体制造商,将来也希望能应用于手机应用处理器等最先进制程上 ... 阅读全文